Новый высокоэффективный светоизлучающий материал

cergey-nn20.07.2007 в 14:32

 

Японские ученые из Национального института передовой промышленной науки и технологии (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology) разработали новую полупроводниковую структуру, которая может использоваться в качестве ультрафиолетового лазера в оптическом приводе.
Изобретение, как утверждают его создатели, поможет достичь более высокой плотности записи информации на гибкий диск.
В основе нового материала лежит слой оксида цинка толщиной 1 мм, полученный с помощью метода молекулярно-лучевого эпитаксиального выращивания кристаллов. Оксид цинка играет роль активного слоя. Вместо двух барьерных слоёв, которые используются в традиционных светоизлучающих устройствах, японские ученые предложили применить один ? ZnMgO. В ходе исследований было замечено, что ZnMgO позволяет добиться еще большей эффективности излучения, чем ZnO. Поэтому в будущем планируется опробовать ZnMgO в качестве активного слоя.
Материал на основе оксида цинка может использоваться в высокоэффективных ультрафиолетовых светоизлучающих диодах, полупроводниковых лазерах, а также высокоэффективных источниках белого света.
По материалам: 3D News


Оставить комментарий

Вы не зарегистрированы, решите арифметическую задачу на картинке,
введите ответ прописью
(обновить картинку).